-
1 Low Pressure Chemical Vapor Deposition
(LPCVD)Химическое осаждение из газовой фазы при пониженном давленииАнгло-русский словарь по нанотехнологиям > Low Pressure Chemical Vapor Deposition
-
2 Low Pressure Chemical Vapor Deposition
(LPCVD)Химическое осаждение из газовой фазы при пониженном давленииRussian-English dictionary of Nanotechnology > Low Pressure Chemical Vapor Deposition
-
3 Low-Pressure Chemical Vapor Deposition
- химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении
- химическое осаждение из паровой фазы при низком давлении
химическое осаждение из паровой фазы при низком давлении
Процесс химического осаждения из паровой фазы, выполняемый при пониженном (по сравнению с атмосферным) давлении
[ http://www.cscleansystems.com/glossary.html]Тематики
EN
химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении
—
[А.С.Гольдберг. Англо-русский энергетический словарь. 2006 г.]Тематики
EN
Англо-русский словарь нормативно-технической терминологии > Low-Pressure Chemical Vapor Deposition
-
4 low-pressure chemical vapor deposition
1) Microelectronics: low-pressure chemical vapour deposition2) Makarov: LPCVDУниверсальный русско-английский словарь > low-pressure chemical vapor deposition
-
5 low-pressure chemical vapor deposition
1) Техника: вакуумное химическое осаждение из газовой фазы, химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении2) Микроэлектроника: химическое парофазное осаждение при низком давлении3) Макаров: (LPCVD) химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давленииУниверсальный англо-русский словарь > low-pressure chemical vapor deposition
-
6 low pressure chemical vapor deposition
Semiconductors: LPCVDУниверсальный русско-английский словарь > low pressure chemical vapor deposition
-
7 low pressure chemical vapor deposition
• alipainetta käyttävä kemiallinen kaasufaasikasvatusEnglish-Finnish dictionary > low pressure chemical vapor deposition
-
8 low-pressure chemical vapor deposition
English-Russian dictionary of microelectronics > low-pressure chemical vapor deposition
-
9 low-pressure chemical vapor deposition (LPCVD)
Макаров: химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давленииУниверсальный англо-русский словарь > low-pressure chemical vapor deposition (LPCVD)
-
10 low-pressure chemical vapor deposition (LPCVD)
хімічне осадження з парової [газової] фази при зниженому тискуEnglish-Ukrainian dictionary of microelectronics > low-pressure chemical vapor deposition (LPCVD)
-
11 low-pressure chemical vapor deposition (LPCVD)
хімічне осадження з парової [газової] фази при зниженому тискуEnglish-Ukrainian dictionary of microelectronics > low-pressure chemical vapor deposition (LPCVD)
-
12 low-pressure chemical vapour deposition
Микроэлектроника: low-pressure chemical vapor depositionУниверсальный англо-русский словарь > low-pressure chemical vapour deposition
-
13 deposition
осадження - blanket deposition
- chemical deposition
- chemical vapor deposition
- diffusional deposition
- dynamic deposition
- electrochemical deposition
- electroless deposition
- electrolythic deposition
- electron-beam deposition
- epitaxial deposition
- evaporation deposition
- evaporative deposition
- excimer-induced deposition
- film deposition
- gas deposition
- glow-discharge deposition
- high-rate deposition
- ion-beam induced deposition
- ion-beam deposition
- ionized-cluster beam deposition
- laser gold deposition
- laser-induced deposition
- laser photo-assisted deposition
- laser photochemical deposition
- localized electrochemical deposition LED
- localized electrochemical deposition
- low-pressure chemical vapor deposition LPCVD
- low-pressure chemical vapor deposition
- low-temperature vapor deposition
- metal deposition
- metall-organic deposition
- microcrystalline like deposition
- microwave plasma reactive vapor deposition
- molecular-beam deposition
- multiple-stage deposition
- oblique deposition
- open-tube deposition
- photochemical deposition
- photo-initiated deposition
- photolytic deposition
- photon-controlled deposition
- physical vapor deposition
- plasma-assisted laser deposition
- pyrolytic deposition
- serigraphic deposition
- sputter deposition
- static deposition
- thin-film deposition
- vacuum vapor deposition
- vapor-phasedeposition
- vapordepositionEnglish-Ukrainian dictionary of microelectronics > deposition
-
14 LPCVD
low-pressure chemical vapor deposition - вакуумное химическое осаждение из газовой фазы; химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении -
15 LP CVD
Англо-русский словарь промышленной и научной лексики > LP CVD
-
16 LPCVD
(LPCVD)Химическое осаждение из газовой фазы при пониженном давлении -
17 LPCVD
(LPCVD)Химическое осаждение из газовой фазы при пониженном давлении -
18 LPCVD
1) Электроника: Liquid Phase Chemical Vapour Deposition2) Полупроводники: low pressure chemical vapor deposition3) Макаров: low-pressure chemical vapor deposition -
19 химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении
1) Engineering: low-pressure chemical vapor deposition2) Makarov: low-pressure chemical vapor deposition( LPCVD)Универсальный русско-английский словарь > химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении
-
20 химическое осаждение из паровой фазы при низком давлении
химическое осаждение из паровой фазы при низком давлении
Процесс химического осаждения из паровой фазы, выполняемый при пониженном (по сравнению с атмосферным) давлении
[ http://www.cscleansystems.com/glossary.html]Тематики
EN
Русско-английский словарь нормативно-технической терминологии > химическое осаждение из паровой фазы при низком давлении
- 1
- 2
См. также в других словарях:
Low Pressure Chemical Vapor Deposition — Low Pressure Chemical Vapor Deposition (LPCVD) Химическое осаждение из газовой фазы при пониженном давлении … Толковый англо-русский словарь по нанотехнологии. - М.
low-pressure chemical vapor deposition — mažaslėgis cheminis garinis nusodinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. low pressure chemical vapor deposition vok. chemische Niederdruckabscheidung aus der Gasphase, f rus. химическое осаждение из паровой фазы при низком… … Radioelektronikos terminų žodynas
Chemical vapor deposition — DC plasma (violet) enhances the growth of carbon nanotubes in this laboratory scale PECVD apparatus. Chemical vapor deposition (CVD) is a chemical process used to produce high purity, high performance solid materials. The process is often used in … Wikipedia
Chemical vapor deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Chemical vapor deposition of ruthenium — is a method to deposit thin layers of ruthenium on substrate by Chemical vapor deposition (CVD). A unique challenge arises in trying to grow impurity free films of a catalyst in Chemical vapor deposition (CVD). Ruthenium metal activates C H and C … Wikipedia
Chemical vapor deposition of diamond — Colorless gem cut from diamond grown by chemical vapor deposition Chemical vapor deposition of diamond or CVD is a method of producing synthetic diamond by creating the circumstances necessary for carbon atoms in a gas to settle on a substrate in … Wikipedia
Hybrid Physical-Chemical Vapor Deposition — (HPCVD) is a thin film deposition technique that combines physical vapor deposition (PVD) with chemical vapor deposition (CVD). For the instance of magnesium diboride (MgB2) thin film growth, HPCVD process uses diborane (B2H6) as the boron… … Wikipedia
Plasma-enhanced chemical vapor deposition — PECVD machine at LAAS technological facility in Toulouse, France. Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) is a process used to deposit thin films from a gas state (vapor) to a solid state on a substrate. Chemical reactions are involved… … Wikipedia
Chemical Vapour Deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Chemical vapour deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Combustion chemical vapor deposition — (CCVD) is a chemical process by which thin film coatings are deposited onto substrates in the open atmosphere. Contents 1 History 2 Principles and procedure 3 Remote combustion chemical v … Wikipedia